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8486302

薄膜沉积设备:

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多靶磁控溅射镀膜系统;将靶材上的材料均匀沉积到器件上;利用等离子体溅射原理,用于半导体器件;丹顿 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情