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8486302

薄膜沉积设备:

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等离子增强化学气相沉积系统;实验室薄膜制备;AIXTRON Ltd;固体样品气化后沉积在固体基体表面,用于薄膜制备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
物理气相沉积装置 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
等离子气相化学沉积设备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
等离子化学气相沉积设备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
薄膜化学气相沉积设备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
平板显示器用薄膜化学气相沉积设备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD) 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD) 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
制造平板显示器化学气相沉积装置 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
化学气相成膜机 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
镀膜机/制造平板显示器专用 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
多靶磁控溅射镀膜系统;将靶材上的材料均匀沉积到器件上;利用等离子体溅射原理,用于半导体器件;丹顿 8486302200 [税目]
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制造平板显示器物理气相沉积装置 8486302200 [税目]
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