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8486302

薄膜沉积设备:

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等离子增强化学气相沉积系统;实验室薄膜制备;AIXTRON Ltd;固体样品气化后沉积在固体基体表面,用于薄膜制备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
溅射装置（旧） 8486302900 [税目]
其他制造平板显示器用薄膜沉积设备 		13% 详情