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84862022

物理气相沉积装置(PVD)

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磁控溅射系统（镀膜专用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
高真空电子束蒸镀系统（物理沉积/实验室用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
电子束镀膜机（物理气相沉积装置） 8486202200 [税目]
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溅射台（物理气相沉积设备） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情