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84862022

物理气相沉积装置(PVD)

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半导体PVD真空溅射镀膜机/2006年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
半导体行业用金属溅射设备 8486202200 [税目]
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制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 8486202200 [税目]
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介质膜蒸镀机上的镀锅 8486202200 [税目]
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磁控溅射系统（镀膜专用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新 8486202200 [税目]
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磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
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镀膜机 8486202200 [税目]
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WB3100焊线机 8486202200 [税目]
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溅射镀膜机 8486202200 [税目]
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金属溅射机 8486202200 [税目]
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光学电子束蒸镀机 8486202200 [税目]
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晶圆电镀机 8486202200 [税目]
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等静压机 8486202200 [税目]
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溅镀机 8486202200 [税目]
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磁控溅射镀膜机 8486202200 [税目]
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多腔体镀膜机 8486202200 [税目]
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高真空溅镀机 8486202200 [税目]
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镀膜机用晶片盖板 8486202200 [税目]
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端导真空溅射镀膜机 8486202200 [税目]
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