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84862021

化学气相沉积装置(CVD)

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原子层沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
电浆辅助原子层沉积系统 8486202100 [税目]
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低介电阻挡层薄膜设备 8486202100 [税目]
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原子层沉积氮氧化硅炉 8486202100 [税目]
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原子层沉积氮化硅炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
高介电常数介质材料盖帽层生长设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情