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8486202

薄膜沉积设备:

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磁控溅射系统(镀膜专用 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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高真空脉冲激光沉积系统(主机 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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等离子增强化学气象沉积系统(见清单 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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水平化学气相沉积装置(旧 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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高真空电子束蒸镀系统(物理沉积/实验室用 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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电子束镀膜机(物理气相沉积装置 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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溅射台(物理气相沉积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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光阻涂布机(TEL牌 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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