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8486202

薄膜沉积设备:

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等静压机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
Parylene沉积系统;在物体表面沉积一层分子膜,膜层可用于表面防护,改善表面特性,表面介质等;制备各种物质薄膜;SCS 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
材料沉积系统(实验室用) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
镀膜机用晶片盖板 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4010# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)329# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)328# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)327# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)326# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)325# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)324# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)322# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)321# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)332# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4032# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)118# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4018# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(PVD装置用)20# 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)120# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情