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8486202

薄膜沉积设备:

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光阻涂布TEL牌) 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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镀膜晶片盖板 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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半导体行业金属溅射设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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金属溅射机台 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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制造半导体器件或集成电路物理气相沉积装置 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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制造半导体器件或集成电路化学气相沉积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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其他制造半导体器件或集成电路薄膜沉积设备 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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太阳能减反射膜制造设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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PECVD减反射膜制造设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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减反射膜制造设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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半导体PVD真空溅射镀膜/2006年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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半导体成型治具 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料沉积,并可控制沉积膜层速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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制造半导体器件化学气相沉积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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减反射膜制造设备(新格拉斯牌) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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介质膜蒸镀镀锅 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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分子束外延系统;制备半导体材料;植被半导体或其他薄膜材料;RIBER 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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卧式低压化学气相沉积炉管系统;制造器件沉积薄膜;低压化学气相沉积;SVCS 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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镀膜 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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