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在"8486202"里共144个搜索结果:
8486202
薄膜沉积设备:
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光阻涂布
机
(
TEL
牌)
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
镀膜
机
用
晶片
盖板
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
半导体
行业
用
金属溅射设备
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
金属溅射
机台
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
制造
半导体器件或集成电路
用
物理气相沉积装置
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
制造
半导体器件或集成电路
用
化学气相沉积装置
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
其他
制造
半导体器件或集成电路
用
薄膜沉积设备
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
太阳能减反射膜
制造
设备
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
PECVD减反射膜
制造
设备
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
减反射膜
制造
设备
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
半导体
PVD真空溅射镀膜
机
/2006年产/七成新
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
半导体
成型治具
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;
用于
基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料
的
沉积,并可控制沉积膜层
的
速率和厚度;DE
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
制造
半导体器件化学气相沉积装置
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
减反射膜
制造
设备(新格拉斯牌)
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
介质膜蒸镀
机
上
的
镀锅
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
半导体
金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
分子束外延系统;制备半导体材料;植被
半导体
或其他薄膜材料;RIBER
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
卧式低压化学气相沉积炉管系统;
制造
器件沉积薄膜;低压化学气相沉积;SVCS
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
多
腔
体
镀膜
机
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
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