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8486202

薄膜沉积设备:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
有机金属化学反应沉积系统;控制薄膜成长过程;华昌贰号 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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