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8486202

薄膜沉积设备:

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钝化系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
溅镀系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属镀膜系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
原子层沉积系统
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13% 详情
磁控溅射系统（镀膜专用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
材料沉积系统(实验室用) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
前电极磁控溅射沉积系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
等离子体CVD纳米材料生长系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
连续式电子束蒸发系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
有机物及金属沉积系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
多功能离子束联合溅射系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
磁性薄膜联合生长系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
电子束蒸发薄膜沉积系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
脉冲激光分子束外延系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
TCO化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
微波辅助化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
高功率脉冲磁控溅射沉积系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
电浆辅助原子层沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情