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8486202

薄膜沉积设备:

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其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
分子束外延系统;制备半导体材料;植被半导体或其他薄膜材料;RIBER 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
镀膜机用晶片盖板 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
材料沉积系统(实验室用) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
半导体行业用金属溅射设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
全自动芯片贴膜机 展示用 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
金属蒸镀机用金属镀锅 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)315# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(PVD装置用)301# 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)310# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)355# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)316# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)116# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)109# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)108# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)107# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)105# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)104# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4016# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4010# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情