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高真空蒸发设备
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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高真空溅镀机
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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详情
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高功率脉冲磁控溅射沉积系统
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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高真空蒸着镀膜设备
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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高真空热阻式蒸镀机
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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高精激光直写光刻机
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8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置
[制造半导体器件或集成电路用的]
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13%
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高真空脉冲激光沉积系统(主机)
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8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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13%
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高真空电子束蒸镀系统(物理沉积/实验室用)
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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高拉应力氮化硅薄膜紫外处理设备
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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高介电常数介质材料盖帽层生长设备
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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