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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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金属蒸镀机用金属镀锅 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属镀膜系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属溅射机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属蒸镀设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属溅射机台 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属蚀刻机
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486204100[税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
13% 详情
8486204900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
13% 详情
金属溅镀机 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
有机物及金属沉积系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
金属铝化学机械抛光设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
金属蚀刻机/LAM牌 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
金属有机化合物化学气相沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
有机金属化学气相沉积炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属栅一体化淀积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机化合物化学气相沉淀反应器 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属硬质掩模等离子体刻蚀机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
金属配线等离子体刻蚀机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机源气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情