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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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多腔体镀膜机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
预沉积扩散炉炉体 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
多晶硅掩模蚀刻腔体 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
等离子增强体化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
化学气相沉积机反应腔体 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
团簇式多腔体等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情