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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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真空蒸发台 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
高真空蒸发设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
真空式紫外线曝光机 8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
高真空溅镀机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
高真空蒸着镀膜设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
端导真空溅射镀膜机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
高真空热阻式蒸镀机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
丹顿真空磁控离子溅射台溅射成膜 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
高真空脉冲激光沉积系统（主机） 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
高真空电子束蒸镀系统（物理沉积/实验室用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
半导体PVD真空溅射镀膜机/2006年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
晶元层压机及配件 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情