过滤过期编码

在"84862"里共12个搜索结果:

84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
Parylene沉积系统;在物体表面沉积一层分子膜,膜层可用于表面防护,改善表面特性,表面介质等;制备各种物质薄膜;SCS 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
原子层沉积系统
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13% 详情
等离子体辅助原子层沉积设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
电浆辅助原子层沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低介电阻挡层薄膜设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
原子层沉积氮氧化硅炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
原子层沉积氮化硅炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
介电层零化学机械研磨设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
高介电常数介质材料盖帽层生长设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
等静压机 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情