|
手动研磨机
|
8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
|
13%
|
|
|
详情
|
|
脉冲激光分子束外延系统
|
8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
|
13%
|
|
|
详情
|
|
高功率脉冲磁控溅射沉积系统
|
8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)4010#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)329#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)328#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)327#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)326#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)325#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)324#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)322#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)321#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)332#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)4032#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)118#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)4018#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(PVD装置用)20#
|
8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)120#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(CVD装置用)4020#
|
8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|
|
射频发生器(PVD装置用)4012#
|
8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
|
13%
|
|
|
详情
|