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8486202
(100)
84862090
(3)
在"84862"里共103个搜索结果:
84862
制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:
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手动
研磨机
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
脉冲
激光分子束外延系统
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
高功率
脉冲
磁控溅射沉积系统
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)4010#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)329#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)328#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)327#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)326#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)325#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)324#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)322#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)321#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)332#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)4032#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)118#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)4018#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(PVD装置用)20#
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)120#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(CVD装置用)4020#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频
发生器
(PVD装置用)4012#
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
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