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84862010
(1)
在"84862"里共139个搜索结果:
84862
制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:
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申报实例
商品编码
出口退税率
监管条件
检验检疫
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制造半导体器件
的
焊接机械 BONDER
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
离子注入设备/VARIAN/定向定量
的
8486205000
[税目]
制造半导体器件或集成电路用离子注入机
13%
详情
介质膜蒸镀机上
的
镀锅
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
清洗机/DNS/清洗硅片表面
的
化
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
将电路图绘制到感光半导体材料上
的
装置
8486203900
[税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的]
13%
详情
将电路图投影到感光半导体材料上
的
装置
8486203900
[税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的]
13%
详情
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上
的
装置
8486203900
[税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的]
13%
详情
圆片切割机,用途:把整块塑封好
的
晶圆划割成单个芯片,
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料
的
沉积,并可控制沉积膜层
的
速率和厚度;DE
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
电极印刷机,在电池片表面印刷主栅线、副栅线,Autek,对已进行前道加工
的
电池片进行丝网印刷
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
太阳能电池
用
烘干炉
8486201000
[税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的]
13%
详情
材料沉积系统(实验室
用
)
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
弹簧夹(光刻机
用
)
8486203100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 [步进光刻机]
13%
详情
镀膜机
用
晶片盖板
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
射频发生器(CVD装置
用
)4010#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频发生器(CVD装置
用
)329#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频发生器(CVD装置
用
)328#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频发生器(CVD装置
用
)327#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频发生器(CVD装置
用
)326#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
射频发生器(CVD装置
用
)325#
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
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