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8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
薄膜沉积系统 8486302900 [税目]
其他制造平板显示器用薄膜沉积设备 		13% 详情
电镀膜沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
化学气象沉积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
氮化钛沉积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
氧化铝薄膜沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
派瑞林沉积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
原子层沉积系统
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13% 详情
薄膜沉积设备
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13% 详情
PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
材料沉积系统(实验室用) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
前电极磁控溅射沉积系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
分子束外延沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
有机物及金属沉积系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
金属溅镀沉积设备 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
化学法钨沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
硫化镉薄膜沉积设备 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
背面钝化膜沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情