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8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

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原子层沉积系统
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
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核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13% 详情
等离子体辅助原子层沉积设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
电浆辅助原子层沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低介电阻挡层薄膜设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
原子层沉积氮氧化硅炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
原子层沉积氮化硅炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
高透导电膜5层成膜装置 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
高透导电膜1层成膜装置 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
介电层零化学机械研磨设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
高介电常数介质材料盖帽层生长设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
喷砂机,品:SMAM,利用气体喷溅金刚砂,打磨硅片表面,用于去除氧化层 8486109000 [税目]
其他制造单晶柱或晶圆用的机器及装置 		13% 详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
Parylene沉积系统;在物体表面沉积一层分子膜,膜层可用于表面防护,改善表面特性,表面介质等;制备各种物质薄膜;SCS 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情