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第84章

核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件

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薄膜沉积系统
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8479899990[税目]
本章其他未列名机器及机械器具 [具有独立功能的]
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8486302900[税目]
其他制造平板显示器用薄膜沉积设备
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材料沉积系统 8479899990 [税目]
本章其他未列名机器及机械器具 [具有独立功能的]
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电镀膜沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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化学气象沉积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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金属有机物沉积系统 8479899990 [税目]
本章其他未列名机器及机械器具 [具有独立功能的]
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氮化钛沉积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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氧化铝薄膜沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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包层沉积设备 8475210000 [税目]
制造光导纤维及预制棒的机器
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芯棒沉积系统 8475210000 [税目]
制造光导纤维及预制棒的机器
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派瑞林沉积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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原子层沉积系统
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13% 详情
薄膜沉积设备
第16类
机器、机械器具、电气设备及其零件;录音机及放声机、电视图像、声音的录制和重放设备及其零件
84
核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件
8486202100[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
8486202900[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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脉冲激光沉积和磁控溅射双模式沉积系统 8479899990 [税目]
本章其他未列名机器及机械器具 [具有独立功能的]
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PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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材料沉积系统(实验室用) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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前电极磁控溅射沉积系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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分子束外延沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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