过滤过期编码

在"8486"里共1698个搜索结果:

8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
射频发生器(CVD装置)97# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)94# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)92# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)86# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)83# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)82# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)77# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)76# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4033# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4030# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4028# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4027# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4026# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4024# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4023# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4022# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4021# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4019# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4015# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情
射频发生器(CVD装置)4014# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13% 详情