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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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射频发生器(CVD装置用)105# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)104# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4016# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
旧化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
水平化学气相沉积装置(旧） 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
旧低压化学气相沉积装置,原价JPY4000000/台 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
干法蚀刻设备配套反应腔装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
300毫米晶圆湿法槽式洗净装置 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
磁控溅射设备(旧,物理气相沉积装置)ALCATEL COMPTECH 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
电子束镀膜机（物理气相沉积装置） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
将电路图绘制到感光半导体材料上的装置 8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
将电路图投影到感光半导体材料上的装置 8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
卷对卷化学气相沉积装置R2R CHEMICAL VAPOR 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
300毫米晶圆湿法槽式氮化膜去除装置 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
自动固晶机,制造半导体器件用,利用内部滴胶装置,通过 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情