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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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半导体行业用金属溅射设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
铜面微蚀处理设备 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
湿膜滚轮涂布烘烤设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
金属有机化合物气相淀积法设备/成套散件 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低温快速热退火设备/型号:AS-Master S20 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
集成电路制造用工艺设备(研磨液供应系统) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
干法蚀刻设备配套反应腔装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
磁控溅射设备(旧,物理气相沉积装置)ALCATEL COMPTECH 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
扫描式光刻机配套涂胶显影机设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
热压印及紫外压印一体纳米压印设备 8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
介电层零化学机械研磨设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
高拉应力氮化硅薄膜紫外处理设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
等离子增强体化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子体增强方式化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
高介电常数介质材料盖帽层生长设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子体增强方式薄膜化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情