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在"8486"里共255个搜索结果:
8486
专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:
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物理气相
沉积
设备配套反应腔装置
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
化学气相
沉积
设备配套反应腔装置
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
磁控溅射设备(旧,物理气相
沉积
装置)ALCATEL COMPTECH
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
等离子化学增强气相
沉积
设备用提升装置
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
物理气相
沉积
设备用专用零部件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
高真空电子束蒸镀系统(物理
沉积
/实验室用)
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
升降装置(化学气相
沉积
设备用,用来升
8486403900
[税目]
其他用于升降、装卸、搬运集成电路等的设备 [升降、装卸、搬运单晶柱、晶圆、半导体器件、集成电路和平板显示器的装置]
13%
详情
制造半导体器件或集成电路用物理气相
沉积
装置
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
制造半导体器件或集成电路用化学气相
沉积
装置
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜
沉积
设备
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
半导体化学气相
沉积
设备专用硅片吸附盘
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
化学气相
沉积
机用喷淋头
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
半导体气相
沉积
设备专用固定板
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
等离子加强气相
沉积
设备用中心
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
半导体气相
沉积
设备专用气体喷嘴
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
化学气象
沉积
机用腔体框架
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
直式
沉积
低压厚膜氮化硅炉管
8486201000
[税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的]
13%
详情
化学气相
沉积
机气体喷淋头
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
平板显示器用薄膜化学气相
沉积
设备
8486302100
[税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置
13%
详情
等离子增强体化学气相
沉积
设备
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
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