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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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金属蒸镀机用金属镀锅 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)315# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(PVD装置用)301# 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)310# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)355# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
集成电路用切筋成型机 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)316# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)116# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)109# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)108# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)107# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)105# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)104# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4016# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
半导体行业用匀胶机(全封闭)COATER ASP2000LX 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
半导体行业用匀胶机(全封闭) COATER ASP2000LX 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
实验室用多功能铜铟镓硒薄膜太阳能模组划线系统 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
修复陶瓷电路板短路金型用激光修补机 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
高真空电子束蒸镀系统（物理沉积/实验室用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情