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光阻涂布机(TEL牌)
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8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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13%
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硅片甩干机(旧)/使硅片干燥
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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射频发生器(CVD装置用)4010#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)329#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)328#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)327#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)326#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)325#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)324#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)322#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)321#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)332#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)4032#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)118#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)4018#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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半导体集成电路用超声波清洗装置
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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半导体集成电路用兆声波清洗装置
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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射频发生器(PVD装置用)20#
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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射频发生器(CVD装置用)120#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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射频发生器(CVD装置用)4020#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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