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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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等离子体辅助原子层沉积设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
金属栅一体化淀积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子体增强化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
可配置卷绕式镀膜设备系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
太阳能电池片全自动串接设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
金属有机化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低介电阻挡层薄膜设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
单片式氮化硅去除设备 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机源气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
化学气相沉积设备/WJ牌 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
钨膜化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
(旧)常压化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
物理气相沉积设备/APPLIED牌 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
湿法刻蚀及PSG祛除设备 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
防焊喷砂前处理设备/MURAKI 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
化学镍金后处理设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
晶舟盒清洗槽/旧设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
化学镍金前处理设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情