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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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等离子化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
集成电路切筋、成形系统GPM牌 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
湿法清洗机温水供应系统 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
切筋成型系统S08(2R) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
ASM牌全自动银浆贴片机,功能:将芯片用银浆贴到框架上 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
实验室用多功能铜铟镓硒薄膜太阳能模组划线系统 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
高真空脉冲激光沉积系统（主机） 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
电浆辅助化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气象沉积系统（见清单） 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
集成电路制造用工艺设备(研磨液供应系统) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
高真空电子束蒸镀系统（物理沉积/实验室用） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
离子束辅助沉积镀膜系统;辅助红外器件镀膜;沉淀金属;牛津 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
有机金属化学反应沉积系统;控制薄膜成长过程;华昌贰号 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情