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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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半导体行业用金属溅射设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
铜面微蚀处理设备 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
离子注入设备/VARIAN/定向定量的 8486205000 [税目]
制造半导体器件或集成电路用离子注入机 		13% 详情
湿膜滚轮涂布烘烤设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
半导体晶圆热处理设备RTP-C7201SA 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
PECVD化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
全自动太阳能电池印刷测试分选设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
高真空蒸着镀膜设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
等离子体辅助原子层沉积设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
金属栅一体化淀积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子体增强化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
可配置卷绕式镀膜设备系统 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
太阳能电池片全自动串接设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
金属有机化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低介电阻挡层薄膜设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
单片式氮化硅去除设备 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
减反射膜制造设备(新格拉斯牌) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情