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在"8486"里共255个搜索结果:
8486
专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:
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化学气相
沉积
设备用盖板FACEPLATE
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
气相
沉积
台零件(加热导线组件)
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
高真空脉冲激光
沉积
系统(主机)
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
ARRAY气相
沉积
系统用间距控制器
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
电浆辅助化学气相
沉积
系统
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
等离子增强化学气象
沉积
系统(见清单)
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜
沉积
系统;用于基片上
沉积
制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的
沉积
,并可控制
沉积
膜层的速率和厚度;DE
8486202200
[税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
13%
详情
半导体化学气相
沉积
设备专用射频线圈
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
边框架/等离子增强化学气相
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
定位环/等离子增强化学气相
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
固定片/等离子增强化学气相
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
陶瓷套筒/等离子增强化学气相
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
激光化学气相
沉积
修补设备用激光源
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
激光化学气相
沉积
修补机(旧)
8486309000
[税目]
其他制造平板显示器用的机器及装置
13%
详情
支撑平台/等离子增强化学气相
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
AKT产扩散器/等离子气相化学
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
JUSUNG产扩散器/等离子气相化学
沉积
设备零件
8486909900
[税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件
13%
详情
旧化学气相
沉积
装置,原价JPY4000000/台
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
水平化学气相
沉积
装置(旧)
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
旧低压化学气相
沉积
装置,原价JPY4000000/台
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
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