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8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

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推力板,气相沉积设备专用,铝制,品牌IMA 8486909900 [税目]
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滚筒(专用于制造半导体器件设备化学气相沉淀 8486909900 [税目]
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滚筒(专用于制造半导体器件设备化学气相沉 8486909900 [税目]
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化学气相沉淀机零件（固定环等） 8486909900 [税目]
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物理气相沉积设备用零件/专用 8486909900 [税目]
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化学气相淀积设备用零件(基座) 8486909900 [税目]
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化学气相淀积设备用零件(喷头) 8486909900 [税目]
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化学气相沉积设备用零件(扩散板) 8486909900 [税目]
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化学气相沉积设备专用零件:扩散板 8486909900 [税目]
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化学气相沉积反应装置用零件 8486909900 [税目]
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加热块(化学气相沉积装置零件) 8486909900 [税目]
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供气模组(化学气相沉积装置零件) 8486909900 [税目]
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化学气相沉积设备用盖板FACEPLATE,APF 8486909900 [税目]
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化学气相沉积设备用盖板FACEPLATE 8486909900 [税目]
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气相沉积台零件(加热导线组件) 8486909900 [税目]
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ARRAY气相沉积系统用间距控制器 8486909900 [税目]
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电浆辅助化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
半导体化学气相沉积设备专用射频线圈 8486909900 [税目]
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边框架/等离子增强化学气相沉积设备零件 8486909900 [税目]
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