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射频发生器(CVD装置用)312#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)311#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)309#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)305#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)303#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)115#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)114#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)113#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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太阳能薄膜电池用镀膜装置
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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半导体行业用金属溅射设备
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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全自动芯片贴膜机 展示用
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8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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13%
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金属蒸镀机用金属镀锅
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)315#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(PVD装置用)301#
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)310#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)355#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)316#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)116#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)109#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)108#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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