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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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等离子化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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金属有机物化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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集成电路切筋、成形系统GPM牌 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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湿法清洗机温水供应系统 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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切筋成型系统S08(2R) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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高压冲磨机成套散件/品牌 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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电浆辅助化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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集成电路制造用工艺设备(研磨液供应系统) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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全自动精密点胶系统/型号:D-583 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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射频等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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ASM牌全自动切筋成型分离系统(旧) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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掺氮介质防反射层化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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离子束辅助沉积镀膜系统;辅助红外器件镀膜;沉淀金属;牛津 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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有机金属化学反应沉积系统;控制薄膜成长过程;华昌贰号 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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团簇式多腔体等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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分子束外延系统;制备半导体材料;植被半导体或其他薄膜材料;RIBER 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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