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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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射频等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
ASM牌全自动切筋成型分离系统(旧) 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
离子束辅助沉积镀膜系统;辅助红外器件镀膜;沉淀金属;牛津 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
有机金属化学反应沉积系统;控制薄膜成长过程;华昌贰号 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
团簇式多腔体等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
分子束外延系统;制备半导体材料;植被半导体或其他薄膜材料;RIBER 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
卧式氧化扩散炉管系统;SVCS;高温氧化制造半导体器件进行科研;高温环境下,将元素扩散入器件 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
卧式低压化学气相沉积炉管系统;制造器件沉积薄膜;低压化学气相沉积;SVCS 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
Parylene沉积系统;在物体表面沉积一层分子膜,膜层可用于表面防护,改善表面特性,表面介质等;制备各种物质薄膜;SCS 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情