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在"84862"里共101个搜索结果:
84862
制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:
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监管条件
检验检疫
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卧式低压化学
气
相
沉积炉管系统;制造器件沉积薄膜;低压化学
气
相
沉积;SVCS
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
电浆
处理
设备
8486204100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
13%
详情
蚀刻
处理
设备
8486204900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
13%
详情
晶片表面
处理
系统
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
前
处理
设备
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
外层蚀刻
处理
设备
8486204900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
13%
详情
氧化
处理
腔
8486202900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
13%
详情
镍金前
处理
设备
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
卷对卷化学
气
相
沉积装置R2R CHEMICAL VAPOR
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
无掺氮介质防反射层化学
气
相
沉积设备
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
团簇式多腔体等离子增强化学
气
相
沉积系统
8486202100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
13%
详情
气
浮导轨
8486204100
[税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机
13%
详情
电浆清洁与表面
处理
系统
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
防焊喷砂前
处理
设备/MURAKI
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
化学镍金后
处理
设备
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
化学镍金前
处理
设备
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
铜面微蚀
处理
设备
8486204900
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
13%
详情
芯片减薄机
品牌
:Disco
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
高拉应力氮化硅薄膜紫外
处理
设备
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
净化水控制箱,
用于
净化水,VARIAN
8486209000
[税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
13%
详情
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