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8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
金属溅镀机 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
金属掩膜板 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
有机物及金属沉积系统 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
金属溅镀沉积设备 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
金属铝化学机械抛光设备 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
金属蚀刻机/LAM牌 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
导轨,专用于制造半导体器件的硅片清洗机,品牌SCREEN,塑料制 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
金属有机化合物化学气相沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
有机金属化学气相沉积炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属栅一体化淀积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机化合物化学气相沉淀反应器 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属硬质掩模等离子体刻蚀机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
金属配线等离子体刻蚀机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机源气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积台 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属结构件/晶片传输装卸设备用 8486901000 [税目]
升降、搬运、装卸机器用零件或附件 [子目848640项下商品用,但自动搬运设备用除外] 		13% 详情
半导体行业用金属溅射设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情