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磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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半导体微电路接合器
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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铜面微蚀处理设备
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8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备
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13%
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单片型硅片表面微颗粒清洗机
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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双束聚焦离子束微纳加工仪
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8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置
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13%
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