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8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

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等离子加强型化学气体淀积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子清洗机用护板 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
等离子干法可刻蚀机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
等离子气相化学沉积设备 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
应力修正技术等离子刻蚀机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
反应式干法等离子蚀刻机 8486204100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 		13% 详情
射频等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子清洗机用零件（连接件） 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
半导体等离子刻蚀机用零件(手动UV承载盘) 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
等离子增强化学气象沉积系统（见清单） 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
边框架/等离子增强化学气相沉积设备零件 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
定位环/等离子增强化学气相沉积设备零件 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
固定片/等离子增强化学气相沉积设备零件 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
陶瓷套筒/等离子增强化学气相沉积设备零件 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
支撑平台/等离子增强化学气相沉积设备零件 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情