过滤过期编码

在"8486"里共52个搜索结果:

8486

专用于或主要用于制造半导体单晶柱或晶圆、半导体器件、集成电路或平板显示器的机器及装置;本章注释九(三)规定的机器及装置;零件及附件:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
带背板的氧化铟锡溅射靶材组件 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带背板的溅射靶材组件的维修费 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带铜制背板的ITO靶材组件 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带脊板的溅射靶材组件的修理费 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带背板的氧化铟锡溅射靶材 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带背管的溅射靶材组件 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带铜制背板的铝钕靶材组件 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带背板的铟金溅射靶材 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带铜制背板的钼靶材组件 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带背板的溅射靶材组件/银靶(背板176.4*106MM重1.67KG) 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
带背板的溅射靶材组件/银靶(背板228*111MM重2.25KG) 8486909100 [税目]
带背板的溅射靶材组件 		13% 详情
多靶磁控溅射镀膜系统;将靶材上的材料均匀沉积到器件上;利用等离子体溅射原理,用于半导体器件;丹顿 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情