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8486202

薄膜沉积设备:

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等离子增强化学气相沉积镀膜 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置]
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电子束镀膜(物理气相沉积装置) 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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介质膜蒸镀上的镀锅 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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光阻涂布(TEL牌) 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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半导体PVD真空溅射镀膜/2006年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置]
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