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高真空溅镀机
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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叠对量测机
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8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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13%
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光阻涂布机
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8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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13%
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详情
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端导真空溅射镀膜机
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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高真空热阻式蒸镀机
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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材料沉积系统(实验室用)
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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高真空脉冲激光沉积系统（主机）
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8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
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13%
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等离子增强化学气象沉积系统（见清单）
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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水平化学气相沉积装置(旧）
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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溅射台（物理气相沉积设备）
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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详情
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化学气相沉积机反应腔体
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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等离子增强化学气相沉积镀膜机
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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介质膜蒸镀机上的镀锅
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8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
[物理气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)4010#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)329#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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详情
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射频发生器(CVD装置用)328#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)327#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)326#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)325#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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射频发生器(CVD装置用)324#
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8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
[化学气相沉积装置]
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13%
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