过滤过期编码

在"84862"里共32个搜索结果:

84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

申报实例 商品编码 出口退税率 监管条件 检验检疫 更多信息
金属有机物化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机物化学气相沉积台 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
半导体行业用金属溅射设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机物化学气相沉淀炉 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机化合物气相淀积法设备/成套散件 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机物化学气相淀积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
金属有机化合物气相淀积法设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
离子束辅助沉积镀膜系统;辅助红外器件镀膜;沉淀金属;牛津 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
有机金属化学反应沉积系统;控制薄膜成长过程;华昌贰号 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
晶元层压机及配件 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
磁控溅射和电子束蒸发一体薄膜沉积系统;用于基片上沉积制备金属或氧化物薄膜材料;进行膜层材料的沉积,并可控制沉积膜层的速率和厚度;DE 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情