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84862

制造半导体器件或集成电路用的机器及装置:

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制造半导体器件装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
制造集成电路装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
晶圆热处理装置 8486201000 [税目]
氧化、扩散、退火及其他热处理设备 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
光罩盒存储装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
光刻胶涂布装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
晶圆清洗剥离装置 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
分子束外延沉积装置 8486202900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 		13% 详情
晶片感光液显像装置 8486203900 [税目]
其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 [制造半导体器件或集成电路用的] 		13% 详情
晶片感光膜清除装置 8486204900 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 		13% 详情
EFLOW防静电发生装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
光罩盒开启装置 8486209000 [税目]
其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 		13% 详情
化学气相沉积装置 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
物理气相沉积装置 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)4010# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)329# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)328# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)327# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)326# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)325# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
射频发生器(CVD装置用)324# 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情