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第84章

核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件

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化学气相沉积机用外框架 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
射频等离子增强化学气相沉积系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
电子束镀膜机（物理气相沉积装置） 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
物理气相沉积设备用硅片提升器 8486403900 [税目]
其他用于升降、装卸、搬运集成电路等的设备 [升降、装卸、搬运单晶柱、晶圆、半导体器件、集成电路和平板显示器的装置] 		13% 详情
制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD) 8486302200 [税目]
制造平板显示器用物理气相沉积装置 		13% 详情
制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD) 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
制造平板显示器化学气相沉积装置 8486302100 [税目]
制造平板显示器用化学气相沉积装置 		13% 详情
气体发生器(旧)/化学气相沉积设备用 8479899990 [税目]
本章其他未列名机器及机械器具 [具有独立功能的] 		13% A M 详情
化学气相沉积设备用气体导流管 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
物理气相沉积设备用固定板 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
化学气相沉积设备用限流管 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
物理气相沉积设备用反射罩 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
化学气相沉积设备用射频传导件 8486909900 [税目]
其他品目8486项下商品用零件和附件 		13% 详情
通断阀/物理气相沉积设备用 8481804090 [税目]
其他阀门 [用于管道、锅炉、罐、桶或类似品的] 		13% 详情
氮化钛沉积设备 8486202200 [税目]
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 [物理气相沉积装置] 		13% 详情
氧化铝薄膜沉积设备 8486202100 [税目]
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 [化学气相沉积装置] 		13% 详情
包层沉积设备 8475210000 [税目]
制造光导纤维及预制棒的机器 		13% 详情